特許
J-GLOBAL ID：200903046571201459
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-108821
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281729
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲンで置換されたアルコキシ基を有する芳香族化合物及びハロゲンで置換されたアルキル基を有する芳香族化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲンで置換されたアルコキシ基を有する芳香族化合物及びハロゲンで置換されたアルキル基を有する芳香族化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/029
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
