特許

J-GLOBAL ID：200903046576046290

スピン洗浄処理装置

発明者： 広瀬 治道
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-135150
公開番号（公開出願番号）：特開平9-321012
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 この発明は回転テ-ブルに保持された半導体ウエハの裏面を確実に洗浄することができるようにしたスピン洗浄処理装置を提供することにある。【解決手段】 回転される半導体ウエハ21に洗浄液を噴射してこの半導体ウエハを洗浄するスピン洗浄処理装置において、固定軸31、33と、この固定軸を内部に収容するとともにこの固定軸に対して回転自在に設けられた回転軸3と、この回転軸を回転駆動するステップモ-タ6と、上記回転軸の上部に設けられた回転テ-ブル9と、この回転テ-ブルの上面に設けられ上記半導体ウエハを着脱自在に保持する保持部材11と、上記固定軸に設けられ上記保持部材に保持される半導体ウエハの下面に向けて洗浄液を噴射するノズル孔27を有するノズル体26とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

回転されるワ-クに洗浄液を噴射してこのワ-クを洗浄するスピン洗浄処理装置において、固定軸と、この固定軸を内部に収容するとともにこの固定軸に対して回転自在に設けられた回転軸と、この回転軸を回転駆動する駆動手段と、上記回転軸の上部に設けられた回転テ-ブルと、この回転テ-ブルの上面に設けられ上記ワ-クを着脱自在に保持する保持手段と、上記固定軸に設けられ上記保持手段に保持されるワ-クの下面に向けて洗浄液を噴射するノズル孔を有するノズル体とを具備したことを特徴とするスピン洗浄処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/02 A ,  B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-185029
  
• 洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-136769   出願人：株式会社東芝