特許

J-GLOBAL ID：200903046577877730

合金薄膜の形成装置

発明者： 近藤 英一 ,  山本 浩 ,  太田 与洋
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052179
公開番号（公開出願番号）：特開平6-264244
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】【目的】 各原料ガスの混合割合の変動を抑えると共に、混合割合の制御性を向上させる合金薄膜の形成装置を提供することにある。【構成】 本形成装置は、化学気相成長によって合金薄膜を形成する反応容器10とバブラー容器20、30を備える。バブラー容器20には、粘性の高いDMAH(ジメチルアルミニウムハイドライド)21が封入され、バブラー容器30には添加原料となるCpCuTEP(=C5 H5 CuP(C2 H5 )3 )31が封入されおり、この2つのバブラー容器を直列に接続することにより、各原料ガスを混合し、反応容器10内に供給する。

請求項（抜粋）：

反応容器内に所定の原料ガスを供給し、化学気相成長によって合金薄膜を形成する合金薄膜の形成装置において、前記形成装置は、高粘性を有する原料を封入した第1収容体と、この原料と混合すべき原料を封入した第2収容体とを備えており、前記各原料のうち、加熱すべき温度が低い原料を封入した一方の前記収容体にキャリアガスを供給すると共に、この収容体において発生した原料ガス及び前記キャリアガスを、他方の前記収容体に供給し、この他方の収容体において混合された前記原料ガス及び前記キャリアガスを、前記反応容器内に導入してなる合金薄膜の形成装置。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/3205