特許
J-GLOBAL ID：200903046580312352
光磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315510
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128609
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 プラスチック基板への光磁気記録層の密着力を強化してクラックや剥離のない高寿命及び高信頼性の光磁気記録媒体を得る。【構成】 あらかじめ不活性ガス雰囲気中にてプラスチック基板の所定の表面に逆スパッタリングの処理を行い、次いで該プラスチック基板を冷却してプラスチック基板の表面に凹凸等の物理的変化を生じさせ、基板表面と光磁気記録層との密着力を向上させるとともに、基板の反りも防止する。
請求項（抜粋）：
透明なプラスチック基板上に少なくとも光磁気記録層を形成した光磁気記録媒体の製造方法において、あらかじめ不活性ガス雰囲気中にて前記プラスチック基板の所定の表面に逆スパッタリングの処理を行ない、ついで該プラスチック基板を冷却する工程を有することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 11/10
, C23C 14/02
, C23C 14/20
