特許
J-GLOBAL ID:200903046586464251

表面プラズモン共鳴法用センサーチップ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷川 英次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-358569
公開番号(公開出願番号):特開2003-156434
出願日: 2001年11月22日
公開日(公表日): 2003年05月30日
要約:
【要約】【課題】 自己組織化膜を構成するチオール分子として、カルボキシル基やアミノ基を有するチオール分子等を用いた自己組織化膜を金属膜上に形成した表面プラズモン共鳴(SPR)法用センサーチップであって、非特異吸着が少ないSPR法用センサーチップを提供すること。【解決手段】 表面プラズモン共鳴法用センサーチップの金属膜上に形成される自己組織化膜を、(i)エチレングリコール単位を含み、カルボキシル基又はアミノ基を有さないチオール(I)と、(ii)カルボキシル基又はアミノ基を有するチオール(II)とで構成し、上記チオール(I)と上記チオール(II)の合計に占める上記チオール(II)の割合が1〜15mol%である、表面プラズモン共鳴法用センサーチップを提供した。
請求項(抜粋):
表面プラズモン共鳴法用センサーチップの金属膜上に形成される自己組織化膜を、(i)エチレングリコール単位を含み、カルボキシル基又はアミノ基を有さないチオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(I)と、(ii)カルボキシル基又はアミノ基を有するチオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)とで構成し、上記(i)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(I)と上記(ii)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)の合計に占める上記(ii)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)の割合が1〜15mol%である、表面プラズモン共鳴法用センサーチップ。
IPC (3件):
G01N 21/27 ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/566
FI (3件):
G01N 21/27 C ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/566
Fターム (6件):
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD01 ,  2G059EE02 ,  2G059FF04

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