特許

J-GLOBAL ID：200903046590449429

パターン化された構造体の測定方法及び測定装置

発明者： デイヴィッド シャイナー ,  モッシェ フィナロフ
出願人/特許権者： ノヴァ メジャリング インストリューメンツ リミテッド
代理人 (1件)： 瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-235444
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074419
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 パターン化された構造体のパラメータを測定する方法及び装置を提供すること。【解決手段】 構造体は、入射輻射線に関して異なった光学的性質を有する二つの隣接した要素12a、12bからなる一つのサイクル12を有するグリッドを表す。構造体の特徴のいくつかに基づいた光学モデルは、構造体から正反射された異なった波長の光要素の分光強度を表す理論データDtを決定でき、構造体の少なくとも一つの所望のパラメータを計算可能である。グリッドサイクルによって規定された構造体の表面領域より実質的に大きい測定領域が所定の波長範囲の入射輻射線により照射される。測定領域から実質的に正反射された光要素が検出され、測定データDmが得られる。測定データと理論データが分析され、理論データが予め設定した条件を満足するまで光学モデルが最適化される。予め設定した条件が満足されると、構造体の少なくとも一つのパラメータが計算される。

請求項（抜粋）：

入射輻射線に関して異なった光学的性質を有する少なくとも二つの隣接した要素(12a、12b)からなる少なくとも一つのサイクル(12)を有するグリッドを表すパターン化された構造体(10、100、110、210、310、410、510)であって、一定の製造過程によって確定された複数の特徴を有する構造体の少なくとも一つの所望のパラメータを測定する方法において、イ) 前記構造体の前記特徴の少なくともいくつかに基づき、前記構造から正反射された異なった波長の光成分の分光強度を表す理論データ(Dt)を決定することができ、且つ構造体の前記少なくとも一つの所望のパラメータを計算することができる光学モデルを用意する工程、ロ) グリッドサイクルによって確定された構造体の表面領域より実質的に大きい測定領域(S1)を、プリセットした実質的に広い波長帯域の入射輻射線によって照射する工程、ハ) 前記測定領域(S1)からほぼ正反射された光成分を検出し、且つ前記波長帯域内の各波長の分光強度を表す測定データ(Dn)を得る工程、ニ) 前記測定データおよび理論データを分析して、理論データが予め設定した条件を満足するまで前記光学モデルを最適化する工程、およびホ) 前記予め設定した条件が満足されたことを検出すると、前記構造体の少なくとも一つのパラメータを計算する工程、を備えたことを特徴とする前記パラメータ測定方法。

IPC (2件)：

G01B 11/06 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01B 11/06 G ,  H01L 21/66 P

Fターム (28件)：

2F065AA24 ,  2F065AA25 ,  2F065AA30 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065FF41 ,  2F065FF49 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG22 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL67 ,  2F065QQ33 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA19 ,  4M106CA21 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DJ20