特許
J-GLOBAL ID：200903046592318313
位置合わせ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079414
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291020
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ上に局所的に非線形歪みがある場合でも、各露光ショットを高精度に且つ高いスループットで位置合わせする。【構成】 1枚目のウエハについて外周サンプルショットRSA1 〜RSA16のステージ座標系での座標値を計測し、それら座標値からそれぞれEGA計算により求めた計算上の座標値を差し引いて、非線形誤差ベクトル(〈AD1 〉等)を求める。2枚目のウエハについても、同じ配列の外周サンプルショットRSA1〜RSA16の非線形誤差ベクトルを求め、それら非線形誤差ベクトルの相関より2枚のウエハの歪み状態が合致するときの回転角を求める。2枚目のウエハについては、1枚目のウエハで定めた重み分布をその回転角だけ回転させた重みを用いて、重み付きEGA方式でアライメントを行う。
請求項（抜粋）：
基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに当たって、前記複数の被加工領域の内、少なくとも3つの予め選択された被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記予め選択された被加工領域のそれぞれに対して前記複数の被加工領域の内の位置決め対象とする被加工領域毎に重み係数を割り当てる第1工程と、前記予め選択された被加工領域のそれぞれの前記静止座標系上における座標位置を計測する第2工程と、前記予め選択された被加工領域のそれぞれの前記試料座標系上の配列座標から1組の変換パラメータを用いて求めた前記静止座標系上の配列座標と、前記計測された配列座標との差分の自乗に前記重み係数を乗じて得られた誤差成分を、前記予め選択された被加工領域の全部について加算して得られる残留誤差成分が最小になるように、前記複数の被加工領域毎に前記1組の変換パラメータの値を定める第3工程と、前記複数の被加工領域毎に求められた前記1組の変換パラメータの値を用いて、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出する第4工程と、を有することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22
, G03F 9/00
