有害物除去装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：澤喜代治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-294577
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116450
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】本発明は、半導体素子製造工程等で発生する気体に含まれた有害物が、ケーシング内に充填された有害物処理材全体と極力効果的に接触するように構成することにより、この有害物処理材の利用率を高める上、これにより、高い処理能力と長寿命を実現し得る有害物除去装置を提供することを目的とする。【構成】本発明は、一端に入口を有するとともに他端に出口を有する筒状のケーシングと、このケーシング内に充填され、且つ有害物を吸着ないし分解する粒状ないし塊状の処理材の充填部とを備える有害物除去装置において、上記ケーシングの入口には当該入口を内側から覆う入口邪魔板を設け、且つ上記処理材の充填部にはその上部又は上下中間部或いは下部のうち少なくとも上部にケーシングの内周面から処理材の充填部内に突出する周囲邪魔板を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

一端に入口を有するとともに他端に出口を有する筒状のケーシングと、このケーシング内に充填され、且つ有害物を吸着ないし分解する粒状ないし塊状の処理材の充填部とを備える有害物除去装置において、上記ケーシングの入口には当該入口を内側から覆う入口邪魔板を設け、且つ上記処理材の充填部にはその上部又は上下中間部或いは下部のうち少なくとも上部にケーシングの内周面から処理材の充填部内に突出する周囲邪魔板を設けたことを特徴とする有害物除去装置。

IPC (3件)：

B01D 53/34 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/81

FI (2件)：

B01D 53/34 A , B01D 53/34 ZAB

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭58-043216
特開昭61-209025
特開昭62-114641

全件表示

前のページに戻る