特許
J-GLOBAL ID:200903046618441259

表面形状を薄膜コーティングを通して求めるための三角測量法及びシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-526408
公開番号(公開出願番号):特表2007-506070
出願日: 2004年09月15日
公開日(公表日): 2007年03月15日
要約:
基板及び被覆膜を有するオブジェクト及びフォトリソグラフィ装置の一部分の互いに対する位置を決める装置は、フォトリソグラフィ・システムと、ポジショナーと、光学システムと、プロセッサと、を備える。フォトリソグラフィ・システムは、オブジェクトの一部分を第1光パターンで照射するように構成され、かつ基準表面を含む。ポジショナーは、フォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えることができる。光投影装置は、第2光パターンをオブジェクトの被覆薄膜に投影するように構成されている。光学システムは、基板によって拡散散乱される第2光パターンの光を撮像する。プロセッサは、オブジェクトの空間特性を拡散散乱光に基づいて求め、かつポジショナーを動作させてフォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えさせるように構成されている。
請求項(抜粋):
方法であって、 光の第1パターンを、基板及び被覆薄膜を含むオブジェクトに投影すること、 前記基板によって拡散散乱される前記投影された第1パターンの光を撮像すること、 前記オブジェクトの空間特性を前記拡散散乱光に基づいて求めること、 を備える方法。
IPC (2件):
G01B 11/24 ,  H01L 21/027
FI (2件):
G01B11/24 D ,  H01L21/30 502V
Fターム (33件):
2F065AA01 ,  2F065AA24 ,  2F065AA30 ,  2F065AA31 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065DD05 ,  2F065DD09 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF52 ,  2F065GG03 ,  2F065GG05 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG21 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL09 ,  2F065LL12 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL51 ,  2F065LL59 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29

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