特許
J-GLOBAL ID：200903046621544050
応力測定方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-165353
公開番号（公開出願番号）：特開平7-019969
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：
【要約】【目的】測定箇所の可視化及び特定化を行うことにより、極微小部(サブマイクロメータ又はナノメータオーダ)の応力値又は応力分布状態を精度良く求める応力測定方法及び装置を提供することにある。【構成】電子銃1から出た電子線2は試料6に照射され、発生した二次電子は検出器7で検出され、画像処理装置9により試料の表面形態を表示する。レーザ光源10から出たレーザ光11は試料6に照射され、発生したラマン散乱光は検出器16で検出され、得られたラマンスペクトルはコンピュータ8に読み込まれる。各走査点での周波数シフト値から応力値を求め、画像処理装置9によりその応力分布状態を表示する。画像処理装置9の画面の中心は電子線のスポット中心及びレーザのスポット中心に一致するように設定する。
請求項（抜粋）：
レーザ光源とレーザ光を被応力測定物表面にスポット状に絞るための対物レンズと散乱光を分光計に導くためのハーフミラーと分光器を備えたラマン分光法による応力測定方法において、電子線を照射して発生する二次電子を検出し、測定箇所の可視化及び特定化を行うことにより、極微小部の応力値又は応力分布状態を測定することを特徴とする応力測定方法。
IPC (4件)：
G01L 1/00
, G01J 3/44
, G01L 1/24
, G01N 21/65
