特許

J-GLOBAL ID：200903046628937732

カラーフィルタの製造方法

発明者： 小川 伸一
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-002842
公開番号（公開出願番号）：特開平6-208018
出願日： 1993年01月11日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【目的】 ブラックマトリクスの幅を均一にでき、しかも遮光性に制限を生じない電気抵抗の低い材料をブラックマトリクスに使うことができるようにする。【構成】 ガラス基板1の上にブラックマトリクス2を形成し、しかる後に各色のフィルタ部5、6、7を形成する。この形成の際、各色のフィルタ部5、6、7を、その端がブラックマトリクス2の上に位置するように行うので、各色のフィルタ部5、6、7の位置合わせが比較的精度よくなされ、その結果としてブラックマトリクス2の幅が均一となる。また、ITO電極3を間にして、ブラックマトリクス2と各色のフィルタ部5、6、7とが形成され、ブラックマトリクス2と各色のフィルタ部5、6、7とが直接に重なることがないので、これによりブラックマトリクス2に電気抵抗の低い金属や樹脂を使っても、膜質の低下がなくなる。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に赤色用フィルタ部、緑色用フィルタ部および青色用フィルタ部が所定のパターンに形成され、フィルタ部の非形成部分にブラックマトリクスが形成されているカラーフィルタの製造方法において、ガラス基板上に、電気抵抗が低く、かつ遮光率が高い顔料を分散させた樹脂または金属からなるブラックマトリクスを所定パターンに形成する工程と、該ブラックマトリクスの上の全面に透明電極を形成する工程と、該透明電極の上にレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に赤色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に緑色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に青色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-279803
  
• 特開昭63-241522