特許

J-GLOBAL ID：200903046645384933

不活性雰囲気めっき方法

発明者： 安部 可伸
出願人/特許権者： 安部 可伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-376614
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169970
出願日： 1998年12月07日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【目的】 被めっき物の前処理液やめっき液や水洗液などの液中、また空中移動空間更に乾燥槽中における酸化を防止する。【構成】 前処理液槽1、ニッケルめっき液槽2、3連水洗槽3、金めっき液槽4、3連湯洗槽5及びめっきチェンバー27内の空気を不活性ガスで置換排出する。【効果】被めっき物のニッケル表面の酸化を防止することにより、はんだ付時はんだ付性がよく、信頼性の高い継手を形成できる。

請求項（抜粋）：

めっき液を窒素等の不活性ガスでバブリングすることによりめっき工程を不活性雰囲気中で行うことを特徴とする不活性雰囲気めっき方法

IPC (3件)：

C23C 18/16 ,  C25D 5/00 ,  C25D 21/00

FI (3件)：

C23C 18/16 Z ,  C25D 5/00 ,  C25D 21/00 Z

Fターム (15件)：

4K022AA02 ,  4K022AA42 ,  4K022BA03 ,  4K022BA14 ,  4K022BA36 ,  4K022DA01 ,  4K022DB13 ,  4K024AA03 ,  4K024AA11 ,  4K024AB02 ,  4K024BA01 ,  4K024BB11 ,  4K024CA16 ,  4K024CB12 ,  4K024GA14