特許
J-GLOBAL ID:200903046654470680

カーボンナノ構造物成長用触媒、カーボンナノ構造物の製造方法、同製造用原料ガスとキャリアガス及び同製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三木 久巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-047961
公開番号(公開出願番号):特開2007-222803
出願日: 2006年02月24日
公開日(公表日): 2007年09月06日
要約:
【目的】カーボンナノ構造物の連続的成長メカニズムを最適化でき、高品質のカーボンナノ構造物を製造することのできるカーボンナノ構造物の製造方法、同製造に用いるカーボンナノ構造物成長用触媒、同製造用原料ガスとキャリアガス及び同製造装置を提供することを目的とする。【構成】本発明に係る、連続的に長さを制御可能なカーボンナノ構造物製造においては、キャリアガスと原料ガスを反応室4に供給して触媒体6によりカーボンナノ構造物2を製造するとき、キャリアガスや原料ガス中の酸素、水分等の酸化性ガス(アセチレン原料ガスでは、溶剤であるDMF、アセトンの微量成分)の濃度を適度に制御することにより、良質のカーボンナノ構造物を高効率に製造することができる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
原料ガスが供給される反応室に配置され、前記原料ガスを前記反応室に流通させながらカーボンナノ構造物を成長させる触媒において、少なくともマグネタイトを有することを特徴とする触媒。
IPC (8件):
B01J 23/745 ,  C01B 31/02 ,  B01J 23/825 ,  B01J 23/835 ,  B82B 3/00 ,  B01J 37/12 ,  B01J 37/14 ,  B01J 37/16
FI (7件):
B01J23/74 301M ,  C01B31/02 101F ,  B01J23/82 M ,  B82B3/00 ,  B01J37/12 ,  B01J37/14 ,  B01J37/16
Fターム (29件):
4G146AA11 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146DA03 ,  4G146DA12 ,  4G146DA26 ,  4G146DA46 ,  4G146DA47 ,  4G169AA08 ,  4G169BA17 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC18B ,  4G169BC22B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EC25 ,  4G169FB02 ,  4G169FB40 ,  4G169FB44
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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引用文献:
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