特許

J-GLOBAL ID：200903046660341043

現像処理方法および現像処理装置

発明者： 山本 太郎 ,  吉原 孝介 ,  大河内 厚 ,  京田 秀治 ,  竹口 博文
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-081534
公開番号（公開出願番号）：特開2004-289020
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】撥水性の強いレジストの現像処理を、少ない量の現像液で均一に行うこと。【解決手段】基板W上の露光後のレジスト膜に、温度T1の純水パドル102aを形成しプリウェットを行ってレジスト膜の撥水性を低下させプルバック現象等を抑止しつつ、その上に温度T1よりも低い温度T2の現像液101からなる現像液パドル101aを形成して露光パターンを現像する。温度差による対流等により、より低温の現像液パドル101aの現像液101は、より高温のプリウェットの純水パドル102a中を均一に浸透してレジスト膜に到達し、均一な現像処理が行われる。【選択図】 図10

請求項（抜粋）：

基板上の露光後のレジスト膜上に第1の温度の純水を塗布するプリウェット工程と、 前記純水の上に前記第1の温度よりも低い第2の温度の現像液を塗布して露光パターンを現像する現像工程と を具備することを特徴とする現像処理方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  G03F7/30

FI (5件)：

H01L21/30 569F ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/10 ,  G03F7/30 ,  H01L21/30 569C

Fターム (30件)：

2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096FA05 ,  2H096GA01 ,  2H096GA17 ,  2H096GA23 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA12 ,  4F041BA34 ,  4F042AA07 ,  4F042BA19 ,  4F042CB07 ,  4F042CB26 ,  4F042DA09 ,  4F042DB51 ,  4F042DC01 ,  4F042DF09 ,  4F042DF28 ,  4F042DF29 ,  4F042DF32 ,  4F042EB18 ,  4F042EB21 ,  4F042EB30 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA08 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14