不活性ガスの精製方法および装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-337274
公開番号（公開出願番号）：特開平8-173748
出願日： 1994年12月26日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：

【要約】【目的】窒素、アルゴン、へリウムなどの不活性ガスを集積度の高い半導体製造工程などに適合するよう高純度に精製する手段を開発する。【構成】精製筒の入口側から順に二酸化炭素の除去能の高い吸着剤、酸素の捕捉能の高い触媒、水分の除去能の大きい吸着剤を充填し、これに精製の対象となる不活性ガスを流して順次接触させる。

請求項（抜粋）：

不純物として?@二酸化炭素、および?A酸素、一酸化炭素、水素、水から選ばれる少なくとも1種を含む不活性ガスの精製方法において、該不活性ガスを?@二酸化炭素の除去能の高い吸着剤A、?A酸素の捕捉能の高い触媒、?B水の除去能の高い吸着剤Bと順次接触せしめることを特徴とする不活性ガスの精製方法。

IPC (6件)：

B01D 53/04 , B01D 53/86 , B01J 20/06 , B01J 20/18 , B01J 23/755 , C01B 23/00

FI (2件)：

B01D 53/36 Z , B01J 23/74 321 M

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