特許

J-GLOBAL ID：200903046670061251

全反射蛍光X線分析方法及びその装置

発明者： 和佐 泰宏 ,  古川 行人 ,  井上 浩司
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-114875
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318518
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】 全反射蛍光X線分析法を用いて局所分析を可能にする全反射蛍光X線分析方法及びその装置を提供する。【構成】 X線を垂直スリット3及び水平スリット4で入射方向に直交する方向で所定の空間分解能の幅に規制して全反射する低角度で試料10に入射させると,試料10表面は細長い線状の長方形で照射される。この入射X線11による試料10の照射位置及び照射方向を移動機構7及び回転機構6で所定ピッチで変化させ,そのときの試料10表面から発生する蛍光X線をX線検出器8でそれぞれ検出して試料10表面の元素分布の線積分値を複数の位置及び方向から求め,更に,コンピュータトモグラフィの手法により試料10表面上の元素の二次元分布が演算処理により求める。

請求項（抜粋）：

平面状の試料に対して低入射角度からX線を照射して該X線を全反射させたときに,上記試料表面の元素から発生する蛍光X線をX線検出器で検出し,該検出出力から試料表面の元素分析を行う全反射蛍光X線分析方法において,上記X線を入射方向に直交する面内で所定幅に規制して上記試料に入射させ,上記試料を上記入射X線に対して所定方向に相対的に平行移動させると共に回転させ,そのときの上記蛍光X線を検出し,該検出出力をコンピュータトモグラフィ演算処理することを特徴とする全反射蛍光X線分析方法。