特許

J-GLOBAL ID：200903046698434797

耐被毒脱臭光触媒

発明者： 佐倉 真 ,  ▲奥▼平 修二
出願人/特許権者： 日揮ユニバーサル株式会社
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-322735
公開番号（公開出願番号）：特開平7-171403
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【構成】 担体、シリカライトからなる吸着層、およびさらにその上に担持された光によって励起される光触媒層よりなる耐被毒脱臭光触媒において、シリカライトのアルカリ金属の含有量をその酸化物として0.5重量%以下とする。脱臭処理は通常運転中は吸着により行い、定期的もしくは不定期的に光を照射して吸着した悪臭物質を光分解することにより達成される。この触媒を悪臭物質の脱臭処理に使用した後に200°C以上の温度で焼成して再生する。【効果】 この触媒は従来の触媒に比べて処理ガス中の水分の影響を受けにくく活性が高く、しかも硫黄化合物に対する耐被毒性が格段に増大している。

請求項（抜粋）：

担体、その上に形成されたアルカリ金属の含有量がその酸化物として0.5重量%以下であるゼオライトからなる吸着層、およびさらにその上に担持された光によって励起される光触媒層よりなることを特徴とする耐被毒脱臭光触媒。

IPC (6件)：

B01J 29/90 ZAB ,  A61L 9/01 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 20/18 ,  B01J 29/06 ZAB ,  B01J 35/02