特許

J-GLOBAL ID：200903046707313469

ビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物の製造方法

発明者： 森 浩司 ,  赤田 充生
出願人/特許権者： 大塚化学株式会社
代理人 (1件)： 亀井 弘勝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-096368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-292857
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】優れた紫外線吸収効果を有するビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物の簡便でかつ効率の良い製造方法、およびその製造方法に用いる合成中間体を提供することである。【解決手段】一般式(1):【化1】[式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、基:-C(CH3 )2 -等を示す。R1 およびR2 は水酸基またはヒドロキシアルキル基を示す。]で表されるメチレンビスフェノール化合物を合成中間体として使用する製造方法である。

請求項（抜粋）：

一般式(1) :【化1】[式中、Aは直接結合するかあるいは炭素数1〜6のアルキレン基、基:-C(CH3 )2 -、基:-C(C2 H5 )(CH3 )-、基:-O-または基:-NH-を示す。R1 およびR2 は、同一または異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。]で表されるメチレンビスフェノール化合物を合成中間体とすることを特徴とする一般式(2) :【化2】[式中、Aは直接結合するかあるいは炭素数1〜6のアルキレン基、基:-C(CH3 )2 -、基:-C(C2 H5 )(CH3 )-、基:-O-または基:-NH-を示す。R1 およびR2 は、同一または異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。R3 およびR4 は、同一または異なって水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはハロゲン原子を示す。]で表されるビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07D249/20 502 ,  C07C245/08

FI (2件)：

C07D249/20 502 ,  C07C245/08