特許
J-GLOBAL ID:200903046712558291

ICカードの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-170448
公開番号(公開出願番号):特開平11-010681
出願日: 1997年06月26日
公開日(公表日): 1999年01月19日
要約:
【要約】【課題】 射出成形により形成するICカードに筆記性を付与する簡便な方法を提供する。【解決手段】 予め双方の表面シートとICチップを含む部品を金型内の所定の位置に載置して樹脂を射出し、一体成形するにあたり、内面の少なくとも1部にシボを有する金型を用いるICカードの製造方法、前記シボは凹凸間の落差が1〜100μmで、凸部の分布が略均一であること、及び、凹凸間の落差の分布の幅がICカードの最大厚みの1/10〜1/500の範囲であること。
請求項(抜粋):
予め双方の表面シートとICチップを含む部品を金型内の所定の位置に載置して樹脂を射出し、一体成形するにあたり、内面の少なくとも1部にシボを有する金型を用いることを特徴とするICカードの製造方法。
IPC (5件):
B29C 45/26 ,  B29C 45/14 ,  B42D 15/10 521 ,  G06K 19/077 ,  G06K 19/07
FI (5件):
B29C 45/26 ,  B29C 45/14 ,  B42D 15/10 521 ,  G06K 19/00 K ,  G06K 19/00 H

前のページに戻る