特許
J-GLOBAL ID：200903046715903798
イオン注入方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-082607
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267494
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 イオン源のプラズマ室の壁面に付着堆積したリンがプラズマ中に混入するのを簡単に防止することができるイオン注入方法を提供する。【構成】 試料36に対するイオン注入時以外の時に、リンよりも蒸気圧の低い元素の化合物ガスの一例であるB2H6/H2 ガスをガス6としてプラズマ室4に供給して、このガスを用いてイオン源2内でプラズマ8を発生させる処理を行う。
請求項（抜粋）：
イオン源から引き出したイオンビームを質量分離を行うことなく試料に照射してイオン注入を行う非質量分離型のイオン注入装置を用いて、少なくとも、リンイオンを含むイオンビームを引き出して試料にリンを注入する方法において、試料に対するイオン注入時以外の時に、リンよりも蒸気圧の低い元素の化合物ガスを用いて前記イオン源においてプラズマを発生させる処理を行うことを特徴とするイオン注入方法。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/08
, H01L 21/265
