特許
J-GLOBAL ID：200903046721153245
マスクの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-125970
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323564
出願日： 1992年05月19日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、マスクの製造方法に関し、所望の寸法のCr膜パターンを確実に、しかも容易に得ることができるマスクの製造方法を提供することを目的とする。【構成】 光透過性基板1上に光遮蔽膜2及び感光性有機膜3を順次形成する工程と、次いで、該感光性有機膜3を露光、現像して第1の開口部4を有する感光性有機膜パターン3aを形成する工程と、次いで、該感光性有機膜パターン3aをマスクとし、該第1の開口部4内の該光遮蔽膜2をエッチングして第2の開口部5を有する光遮蔽膜パターン2aを形成する工程と、次いで、透過光を利用した測定方法により該第2の開口部5寸法及び該光遮蔽膜パターン2a寸法のうち、少なくともどちらか一方を測定する工程と、次いで、測定された寸法値が許容範囲内の時、該感光性有機膜パターン3aを除去し、一方、測定された寸法値が許容範囲からずれた時、寸法ずれ量に基づいて該光遮蔽膜パターン2aを再度エッチングした後、更に該感光性有機膜パターン3aを除去する工程とを含むように構成する。
請求項（抜粋）：
光透過性基板(1)上に光遮蔽膜(2)及び感光性有機膜(3)を順次形成する工程と、次いで、該感光性有機膜(3)を露光、現像して第1の開口部(4)を有する感光性有機膜パターン(3a)を形成する工程と、次いで、該感光性有機膜パターン(3a)をマスクとし、該第1の開口部(4)内の該光遮蔽膜(2)をエッチングして第2の開口部(5)を有する光遮蔽膜パターン(2a)を形成する工程と、次いで、透過光を利用した測定方法により、該第2の開口部(5)寸法及び該光遮蔽膜パターン(2a)寸法のうち、少なくともどちらか一方を測定する工程と、次いで、測定された寸法値が許容範囲内の時、該感光性有機膜パターン(3a)を除去し、一方、測定された寸法値が許容範囲からずれた時、寸法ずれ量に基づいて該光遮蔽膜パターン(2a)を再度エッチングした後、更に該感光性有機膜パターン(3a)を除去する工程とを含むことを特徴とするマスクの製造方法。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/302
, H01L 21/312
, H01L 21/66
