特許
J-GLOBAL ID:200903046729117396

光触媒装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 祥泰 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-059935
公開番号(公開出願番号):特開2001-246228
出願日: 2000年03月06日
公開日(公表日): 2001年09月11日
要約:
【要約】【課題】 半永久的に使用することのできる光触媒装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも底板21と左右の側板22,23とを有するベースフレーム2と,ベースフレーム2の内部に配設した紫外線照射用の光源3と,光源3の前方と後方とにおいてベースフレーム2に取付けたフィルター取付け用のフィルターフレーム4と,各フィルターフレーム4に着脱可能に取付けた光触媒フィルター5とよりなる。前方と後方の光触媒フィルター5に順次被処理ガスを通過させると共に,光源3によって紫外線を照射することにより,上記被処理ガス中の有害成分を分解する。
請求項(抜粋):
少なくとも底板と左右の側板とを有するベースフレームと,該ベースフレームの内部に配設した紫外線照射用の光源と,該光源の前方と後方とにおいて上記ベースフレームに取付けたフィルター取付け用のフィルターフレームと,各フィルターフレームに着脱可能に取付けた光触媒フィルターとよりなり,上記前方と後方の光触媒フィルターに順次被処理ガスを通過させると共に,上記光源によって紫外線を照射することにより,上記被処理ガス中の有害成分を分解するよう構成してあることを特徴とする光触媒装置。
IPC (4件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 15/00 ,  B01J 35/02
FI (5件):
B01J 15/00 ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 ZAB E ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 J
Fターム (42件):
4D048AA08 ,  4D048AA17 ,  4D048AA19 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07Y ,  4D048BB02 ,  4D048BB11 ,  4D048BB18 ,  4D048CA01 ,  4D048CA02 ,  4D048CC04 ,  4D048CC08 ,  4D048CC09 ,  4D048DA05 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA04A ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069CD02 ,  4G069DA06 ,  4G069EA14 ,  4G069FA06 ,  4G069FB15 ,  4G069FB79 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA01 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EE15 ,  4G075EE34 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04
引用特許:
審査官引用 (9件)
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