特許
J-GLOBAL ID：200903046735669856
低分子量スチレン系重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-076887
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269205
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：
【要約】【課題】 均一な粒子径を有する低分子量スチレン系重合体を、高い転化率で得られる低分子量スチレン系重合体の製造方法を提供する。【解決手段】 懸濁重合法を用いる低分子量スチレン系重合体の製造方法において、以下の工程(A)〜(C)を含む低分子量スチレン系重合体の製造方法に関する。(A)スチレン系モノマーと、重合開始剤と、連鎖移動剤とを混合し、混合溶液を調製する工程。(B)混合溶液を加熱して、スチレン系モノマーを初期重合する工程。(C)初期重合の温度よりも高い温度に昇温し、混合溶液をさらに加熱する工程。
請求項（抜粋）：
懸濁重合法を用いる低分子量スチレン系重合体の製造方法において、以下の工程(A)〜(C)を含むことを特徴とする低分子量スチレン系重合体の製造方法。(A)スチレン系モノマーと、重合開始剤と、連鎖移動剤とを混合し、混合溶液を調製する工程。(B)混合溶液を加熱して、スチレン系モノマーを初期重合する工程。(C)初期重合の温度よりも高い温度に昇温し、混合溶液をさらに加熱する工程。
IPC (4件)：
C08F 2/18
, C08F 2/38
, C08F 4/38
, C08F 12/00
C08F 2/18
, C08F 2/38
, C08F 4/38
, C08F 12/00
