特許
J-GLOBAL ID：200903046740630593
X線露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003055
公開番号（公開出願番号）：特開平6-208941
出願日： 1993年01月12日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：
【要約】【目的】 ウェハに照射されるX線量を正確に検出して所定値に維持することのできるX線露光装置を提供すること。【構成】 マスク12は、ウェハ11のパターン形成領域に対応したパターン領域を有し、該マスクの前記パターン領域よりも広い所定領域にX線が照射される。前記マスクの上方であって前記パターン領域から外れた前記所定領域内に、前記X線の照射により蛍光を発生する発光部と前記蛍光を受光するフォトダイオードとを含むX線量検出器13を配置した。
請求項（抜粋）：
ウェハのパターン形成領域に対応したパターン領域を有するマスクを備え、該マスクの前記パターン領域よりも広い所定領域にX線を照射するようにしたX線露光装置において、前記マスクの上方であって前記パターン領域から外れた前記所定領域内に、前記X線の照射により蛍光を発生する発光部と前記蛍光を受光するフォトダイオードとを含むX線量検出器を配置したことを特徴とするX線露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
