特許
J-GLOBAL ID：200903046743511641

ドライフィルムレジスト

発明者：
和田 玲子

和田 玲子 について

, 
森 徹

森 徹 について


出願人/特許権者：
旭化成株式会社

旭化成株式会社 について


代理人 (1件)： 加々美 紀雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-107185
公開番号（公開出願番号）：特開2002-303971
出願日： 2001年04月05日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：
【要約】【課題】 高感度,高解像性を有し、レジストラインの形成性が極めて良好かつ保存安定性に優れるアルカリ現像可能のドライフィルムレジストを提供する。【解決手段】 (a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)ウレタン基を有するエチレン性不飽和化合物、(c)アクリジン誘導体、(d)ハロゲン化合物からなることを特徴とする光重合性樹脂組成物層を支持層上に形成してドライフィルムレジストとする。特に、(b)が下記式(1)に示すものであれば、高感度かつ高解像度の光重合性樹脂組成物を得ることができる。【化10】(式中のR1,R2及びR3は水素又はメチル基、Aは炭素数2〜20の二価の炭化水素基、mは2〜25の整数、nはR2がメチル基の場合には1〜25の整数であり、R2が水素の場合には1〜12の整数であってかつn/m≦3である。)
請求項（抜粋）：
(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)アクリジン誘導体、(d)ハロゲン化合物を含む光重合性樹脂組成物であって、(b)エチレン性不飽和化合物として、少なくとも(b-1)ウレタン基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことを特徴とする光重合性樹脂組成物の層を、支持層上に形成してなるドライフィルムレジスト。
IPC (10件)：
G03F 7/004 512 ,  C08F 2/00 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/50 ,  C08F291/06 ,  C08F291/12 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  H05K 3/00
FI (10件)：
G03F 7/004 512 ,  C08F 2/00 C ,  C08F 2/44 Z ,  C08F 2/50 ,  C08F291/06 ,  C08F291/12 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  H05K 3/00 F
Fターム (59件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB11 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC45 ,  2H025CA14 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025FA17 ,  4J011AC04 ,  4J011CA02 ,  4J011CC10 ,  4J011PA36 ,  4J011PA43 ,  4J011PA44 ,  4J011PA45 ,  4J011PA69 ,  4J011PA70 ,  4J011PC08 ,  4J011QA03 ,  4J011QA04 ,  4J011QA13 ,  4J011QA14 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA33 ,  4J011QB15 ,  4J011QB16 ,  4J011QB24 ,  4J011QC07 ,  4J011RA03 ,  4J011RA04 ,  4J011RA12 ,  4J011SA78 ,  4J011TA10 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA53 ,  4J026BA27 ,  4J026BA28 ,  4J026BA30 ,  4J026BA50 ,  4J026DB06 ,  4J026DB24 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026GA06 ,  4J026GA08
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 光画像形成性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-337103   出願人：ニチゴー・モートン株式会社
  • 特開平4-136942
  • 特開昭63-260909

前のページに戻る

TOP

BOTTOM