特許
J-GLOBAL ID:200903046753184266
加熱装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
中村 友之
, 三好 秀和
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
, 鈴木 壯兵衞
, 高久 浩一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-269085
公開番号(公開出願番号):特開2004-111107
出願日: 2002年09月13日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
【課題】被加熱体を加熱するプレートに、局所的なクール部位やホット部位ができることなくプレートの均熱性を向上させる。【解決手段】加熱装置31は、被加熱体を加熱する加熱面を有したプレート32と、プレート32に設けられた抵抗発熱体からなるヒータエレメント33とを備える。ヒータエレメント33は、複数回折り返されることにより全体が連続した同心円状の配線パターンとなっていると共に、折り返し部分Aの幅L4が一般部Bの幅L3よりも大きくなっている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加熱体を加熱する加熱面を有したプレートと、プレートに設けられた抵抗発熱体とからなるヒータエレメントとを備えた加熱装置において、
前記ヒータエレメントは、複数回屈曲することにより連続した配線パターンとなっていると共に、一の屈曲部分と隣接している他の屈曲部分との間に均熱パターン部が形成されていることを特徴とする加熱装置。
IPC (5件):
H05B3/10
, H01L21/3065
, H01L21/31
, H05B3/02
, H05B3/74
FI (6件):
H05B3/10 A
, H05B3/10 C
, H01L21/31 B
, H05B3/02 B
, H05B3/74
, H01L21/302 101G
Fターム (22件):
3K092PP20
, 3K092QA05
, 3K092QB43
, 3K092RF03
, 3K092RF11
, 3K092RF19
, 3K092RF22
, 3K092VV09
, 3K092VV22
, 4K029FA06
, 4K029GA01
, 4K030KA24
, 5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BB22
, 5F004BB26
, 5F004BB29
, 5F045AA03
, 5F045AA06
, 5F045AA08
, 5F045EK08
, 5F045EM05
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