特許

J-GLOBAL ID：200903046757577408

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 木村 忠司 ,  関口 大好 ,  内山 博一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-271433
公開番号（公開出願番号）：特開2002-083405
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】 基板上の絶縁膜のパターン開口部への金属膜の形成にあたり、金属膜の剥離や消失などの不良を無くすことができ、寸法の拡大もなく微細化が可能で、特性、品質、歩留まりの良い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 絶縁膜6,5,4のパターン開口部20への金属膜7の形成前に、不活性ガスを含むガス若しくは還元性ガスのプラズマを用いてパターン開口部20をドライエッチングする。

請求項（抜粋）：

基板上に絶縁膜のパターンを形成した後、上記基板の絶縁膜パターンの開口部に、金属膜のパターンを形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、上記金属膜の形成の前に、不活性ガスを含むガス若しくは還元性ガスのプラズマを用いて、上記基板の上記絶縁膜パターンの開口部内の上記基板の表面をドライエッチングして、上記基板の表面の酸化層を除去することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/31 ,  H01L 43/08 ,  H01L 43/12

FI (5件)：

G11B 5/31 M ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 F ,  H01L 43/08 Z ,  H01L 43/12

Fターム (6件)：

5D033CA04 ,  5D033DA01 ,  5D033DA03 ,  5D033DA04 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31