特許
J-GLOBAL ID：200903046758283440

マルチスリット走査撮像装置

発明者：
石原 満宏

石原 満宏 について


出願人/特許権者：
株式会社高岳製作所

株式会社高岳製作所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-358493
公開番号（公開出願番号）：特開2000-180139
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、非走査型の共焦点撮像系を用いた表面形状計測装置において、画素開口率の低さにより微小物体が計測不可能となる問題を解決することを目的とする。【解決手段】 一般的なピンホール型の共焦点ではなく、スリット型の非走査共焦点撮像系を用い、物体に投影されるマルチスリットを2次元検出器の露光時間内に一画素相当の距離スキャンさせることで共焦点の効果を維持しつつ画素開口率が100%となるようにする。
請求項（抜粋）：
複数のスリット開口を持ち、背後から照明されたスリット開口の像を対物レンズにより物体面に結像させ、物体から反射してきた光を再び同一の対物レンズで集光し、前記スリット開口と光学的に同一の位置にあるスリット開口を通過した反射光の量を2次元検出器で検出する構造を有する非走査型マルチスリット共焦点撮像系と、前記2次元検出器の1回の露光時間内に前記の複数スリット開口の像を、物体に対して微小に走査するマルチスリット微小走査機構とを備えることを特徴とするマルチスリット走査撮像装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24 ,  G02B 3/00 ,  G02B 26/10 107
FI (3件)：
G01B 11/24 Z ,  G02B 3/00 A ,  G02B 26/10 107
Fターム (21件)：
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065CC25 ,  2F065DD04 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG02 ,  2F065GG12 ,  2F065HH06 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL03 ,  2F065LL04 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065LL36 ,  2F065MM16 ,  2F065QQ31 ,  2H045AF12 ,  2H045DA31
引用特許：
出願人引用 (3件)

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