特許
J-GLOBAL ID：200903046759551392
薄膜製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-042709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249580
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造工程においてウエハ上に薄膜を形成する際にウエハを安定に保持すると共に熱伝導によりウエハの温度を均一に保ちつつ、薄膜を形成する薄膜製造装置に関し、ウエハの温度を均一に保持しウエハの位置によらず均一な特性の薄膜が得られる薄膜製造装置を提供することを目的とする。【構成】 加熱装置により加熱されるサセプタ2上にウエハ1を保持するための保持部5を形成し、保持部5に円盤状のリング状部材3を係合させ、リング状部材3の内周部にウエハ1を係合させ、サセプタ2にウエハ1を保持することによりウエハ1の側端部をリング状部材3を介して保持部5の内側面に対向させ、サセプタ2の加熱時のウエハ1の周縁部分での温度上昇を抑制し、ウエハ1の温度を全体で均一なものとする。
請求項（抜粋）：
ウエハ(1)を保持部材(2)に保持し、該保持部材(2)を加熱することにより、該ウエハ(1)を加熱しつつ、該ウエハ(1)上に薄膜を形成する薄膜製造装置において、前記保持部材(2)の前記ウエハ(1)周縁部に設けられ、前記保持部材(2)の前記ウエハ(1)周縁部の温度を低下させる温度制御手段(3)を有することを特徴とする薄膜製造装置。
引用特許：
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