特許

J-GLOBAL ID：200903046763073373

静電吸着電極装置

発明者： 小倉 毅勇 ,  尾藤 陽二
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-177072
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026563
出願日： 1997年07月02日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 静電吸着電極の外周部やフォーカスリングへ堆積物が堆積することを抑制、防止する。【解決手段】 ウエハ1を設置する静電吸着電極2と、ウエハ1を吸着させるために直流高電圧を静電吸着電極2に印加する直流高電圧電源5と、ウエハ1を冷却するためにウエハ1の裏面に冷却用ガスを導入するための機構と、ウエハ1の外周に配置され静電吸着電極2を保護するフォーカスリング3と、このフォーカスリング3の近傍でガスを吹き出す機構とを備えた。冷却用ガスをフォーカスリング3に向け吹き付ける構成とすることにより、反応生成物の中で蒸気圧の低い副生成物9が静電吸着電極2の外周部やフォーカスリング3に堆積することを防止できる。そのため、ウエハ1が静電吸着電極2表面に密着し、ウエハ1温度を安定した状態に制御できる。

請求項（抜粋）：

ウエハを設置する静電吸着電極と、前記ウエハを吸着させるために直流高電圧を前記静電吸着電極に印加する直流高電圧電源と、前記ウエハを冷却するためにウエハの裏面に冷却用ガスを導入するための機構と、冷却用ガスの流量および圧力あるいはその両方を調節する機構と、前記ウエハの外周に配置され前記静電吸着電極を保護するフォーカスリングと、このフォーカスリングの近傍でガスを吹き出す機構とを備えた静電吸着電極装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273139   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特公平7-027959