特許

J-GLOBAL ID：200903046763709839

スパッタエッチング装置の異常放電監視方法

発明者： 大江 一郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  株式会社九州富士通エレクトロニクス
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-023116
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226296
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 スパッタエッチングに関し,エッチング中に発生する異常放電を監視できるようにして, 処理の信頼性を向上することを目的とする。【構成】 1)半導体ウエハをスパッタエッチング処理中に,ガスプラズマの発光強度を監視して処理室内の異常放電を監視するように構成する。2)前記ガスプラズマの発光スペクトルにおいて波長705nm の発光強度を監視するように構成する。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハをスパッタエッチング処理中に,ガスプラズマの発光強度を検出して処理室内の異常放電を監視することを特徴とするスパッタエッチング装置の異常放電監視方法。

IPC (6件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  C30B 25/06 ,  H01L 21/285 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46