特許
J-GLOBAL ID：200903046770658204
ガスハイドレート生成方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-216592
公開番号（公開出願番号）：特開2004-059630
出願日： 2002年07月25日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】氷とボイルオフガスから効率的にガスハイドレートを生成することができるガスハイドレート生成方法を提供する。【解決手段】反応タンク2内に、氷点以下のガスaを噴出させるとともに、このガスaの中に水bを噴霧させて微細な氷粒cを形成させると同時に、この氷粒c内にガスaを取り込む。しかる後に、ガスaを取り込んだ氷粒cを生成塔3に導入する。そして、生成塔3にてガスaを取り込んだ氷粒cを過冷却してガスハイドレートeを生成させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
反応タンク内に、氷点以下のガスを噴出させるとともに、このガスの中に水を噴霧させて微細な氷粒を形成させると同時に、この氷粒内にガスを取り込み、しかる後に、ガスを取り込んだ氷粒を生成塔に導入し、該生成塔にてガスを取り込んだ氷粒を過冷却してガスハイドレートを生成させることを特徴とするガスハイドレート生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
