特許

J-GLOBAL ID：200903046773967143

シリカ系被膜及びその製造方法

発明者： 坂本 好謙 ,  萩原 嘉男 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006369
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251310
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】【課題】 熱処理時のガス発生に起因するトラブルのない、微細配線パターンの形成に十分に対応できるシリカ系被膜を提供する。【解決手段】 赤外吸収スペクトルにおいて、3000cm-1付近のピークを有さず、かつ熱重量測定に際し、重量増加を示すトリアルコキシシランの酸加水分解生成物を焼成してなるシリカ系被膜である。

請求項（抜粋）：

赤外吸収スペクトルにおいて、3000cm-1付近のピークを有さず、かつ熱重量測定に際し、重量増加を示すトリアルコキシシランの酸加水分解生成物を焼成してなるシリカ系被膜。