特許

J-GLOBAL ID：200903046783441778

放電プラズマ処理装置及びこれを用いた表面処理品の製造方法

発明者： 湯浅 基和
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053604
公開番号（公開出願番号）：特開平11-244689
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 処理の際のガス雰囲気を問わず、大気圧近傍の圧力下で均一な放電プラズマを発生させ、連続してプラズマ処理が行え、かつ、得られる積層体に瑕又は皺が発生することのない、放電プラズマ処理装置及びこれを用いた表面処理品の製造方法を提供する。【解決手段】 ロール状電極1と、該ロール状電極1と略等間隔で対峙された曲面を有する曲面電極2とからなり、双方の対峙された面間が放電空間3とされ、少なくとも何れか一方の電極に固体誘電体が設けられている。

請求項（抜粋）：

ロール状電極と、該ロール状電極と略等間隔で対峙された曲面を有する曲面電極とからなり、双方の対峙された面間が放電空間とされ、少なくとも何れか一方の電極に固体誘電体が設けられていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

B01J 19/08 ,  C08J 7/00 306 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

B01J 19/08 E ,  C08J 7/00 306 ,  H05H 1/24

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-247219
  
• 特開平2-258014
  
• 特開昭59-226028