特許

J-GLOBAL ID：200903046821664921

回転式基板表面洗浄装置

発明者： 田中 悟
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-299703
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153731
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【目的】 洗浄時に洗浄液の飛散を抑える。【構成】 基板表面洗浄装置1は、回転する角型基板Wの表面に洗浄液を供給して基板表面を洗浄する装置であり、基板支持部2と洗浄液供給ノズル15と飛散防止カバー16とを備えている。基板支持部2は、角型基板Wを支持し回転可能である。超音波洗浄ノズル15は、角型基板Wに対して上方から洗浄液を供給し得る。飛散防止カバー16は、超音波洗浄ノズル15の周りに配置され、超音波洗浄ノズル15から角型基板Wに供給された洗浄液の飛散を防止する。

請求項（抜粋）：

回転する基板の表面に洗浄液を供給して基板表面を洗浄する回転式基板表面洗浄装置であって、前記基板を支持し回転可能な基板支持部と、前記基板支持部に支持された前記基板に対して、上方から洗浄液を供給し得る洗浄液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルの周りに配置され、前記洗浄液供給ノズルから前記基板に供給された洗浄液の飛散を防止するための飛散防止カバーと、を備えた回転式基板表面洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-182830
  
• 特開昭61-234964
  
• 特開昭48-043576