特許

J-GLOBAL ID：200903046823890643

酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法

発明者： 森嶋 浩之 ,  島村 泰夫 ,  佐藤 任廷
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-229973
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073339
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】【目的】 熱的に安定で、成膜性も良好なクラックの発生しない酸化物被膜を形成する酸化物被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 (A)一般式 Si(OCOR)4(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表されるアセトキシシラン化合物と、(B)一般式 XSi(OR′)3(式中、Xは水素又はフッ素を意味し、R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表されるトリアルコキシシラン化合物とを溶媒の存在下に触媒を用いて、縮重合させて得られる反応物を含んでなる酸化物被膜形成用塗布液およびこの塗布液を用いた酸化物被膜の製造法。

請求項（抜粋）：

(A)一般式 Si(OCOR)4(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表されるアセトキシシラン化合物と、(B)一般式 XSi(OR′)3(式中、Xは水素又はフッ素を意味し、R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表されるトリアルコキシシラン化合物とを溶媒の存在下に触媒を用いて、縮重合させて得られる反応物を含んでなる酸化物被膜形成用塗布液。

IPC (3件)：

C09D183/04 PMS ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/90