特許
J-GLOBAL ID：200903046835883669

顔料分散体の製造方法

発明者：
廣田 尚久

廣田 尚久 について

, 
板橋 正志

板橋 正志 について

, 
真木 伸一郎

真木 伸一郎 について


出願人/特許権者：
東洋インキ製造株式会社

東洋インキ製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-125750
公開番号（公開出願番号）：特開2007-291302
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】酸化亜鉛、酸化チタンに代表される無機顔料の分散体において、分散性および経時安定性が良好で、且つ塗布したときの透明性に優れる、とりわけ化粧料用途に好適な顔料分散体の製造方法を提供する。【解決手段】無機顔料と液状のシリコーンとを含む混合物を、円筒状の混練シリンダ内に設けた環状の固定円盤と、前記円筒状の混練シリンダの軸心回りを回転する駆動軸と一体回転し、前記固定円盤と同心の回転円盤との間隙部分に形成された粉砕空間を有する連続混練機にて混練処理することを特徴とする顔料分散体の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
無機顔料と液状のシリコーンとを含む混合物を、円筒状の混練シリンダ内に設けた環状の固定円盤と、前記円筒状の混練シリンダの軸心回りを回転する駆動軸と一体回転し、前記固定円盤と同心の回転円盤との間隙部分に形成された粉砕空間を有する連続混練機にて混練処理することを特徴とする顔料分散体の製造方法。
IPC (14件)：
C09D 17/00 ,  C09C 1/00 ,  C09C 3/12 ,  C09C 1/04 ,  C09C 1/36 ,  A61K 8/27 ,  A61K 8/29 ,  A61K 8/892 ,  A61K 8/898 ,  A61K 8/893 ,  A61Q 17/04 ,  B01F 3/14 ,  B01F 7/08 ,  B01F 7/10
FI (14件)：
C09D17/00 ,  C09C1/00 ,  C09C3/12 ,  C09C1/04 ,  C09C1/36 ,  A61K8/27 ,  A61K8/29 ,  A61K8/892 ,  A61K8/898 ,  A61K8/893 ,  A61Q17/04 ,  B01F3/14 ,  B01F7/08 A ,  B01F7/10
Fターム (45件)：
4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083BB23 ,  4C083CC01 ,  4C083CC19 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083FF01 ,  4G035AB46 ,  4G035AE13 ,  4G078AA03 ,  4G078AB01 ,  4G078AB05 ,  4G078CA12 ,  4G078CA19 ,  4G078DA09 ,  4G078DA23 ,  4G078DA28 ,  4J037AA09 ,  4J037AA10 ,  4J037AA11 ,  4J037AA15 ,  4J037AA18 ,  4J037AA22 ,  4J037AA25 ,  4J037CB15 ,  4J037CB23 ,  4J037CC28 ,  4J037DD05 ,  4J037EE03 ,  4J037EE28 ,  4J037EE43 ,  4J037FF02 ,  4J037FF04 ,  4J037FF09 ,  4J037FF15 ,  4J037FF23
引用特許：
出願人引用 (2件)

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