特許
J-GLOBAL ID：200903046840615982
光学薄膜成膜装置及び光学薄膜成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-392537
公開番号（公開出願番号）：特開2005-154804
出願日： 2003年11月21日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 製品基板上に成膜された光学薄膜の膜厚を設計目標どおりに成膜できる光学薄膜成膜装置及び光学薄膜成膜方法を提供すること。【解決手段】 本実施形態に係る光学薄膜成膜装置1は、真空槽2内に配設され光学薄膜3が成膜されて製品となる製品基板(基板)5上に光学薄膜3を成膜する装置であって、製品基板5に対向して真空槽2の底部側でかつ中心から偏った位置に配設された二つの蒸着源7,8と、真空槽2の上方側で製品基板5を保持して蒸着源7,8上を通過可能な球面ドーム(基板保持部)10と、蒸着源7,8のそれぞれの直上に配され蒸着源7,8と球面ドーム10との間を遮蔽可能なシャッター11、12と、製品基板5に成膜された光学薄膜3の光学特性値を計測する特性評価手段13と、膜厚制御を行う膜厚制御システム15とを備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
真空槽内に配設された基板上に光学薄膜を成膜する装置において、
前記基板に対向して配設された蒸着源と、
前記基板を保持して前記蒸着源上を通過可能な基板保持部と、
前記基板に成膜された前記光学薄膜の光学特性値を計測する特性評価手段とを備えていることを特徴とする光学薄膜成膜装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C14/54 E
, C23C14/54 F
, G02B1/10 A
2K009AA03
, 2K009CC02
, 2K009DD03
, 4K029AA24
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029CA09
, 4K029DA03
, 4K029DB05
, 4K029DB14
, 4K029EA01
, 4K029JA03
