特許
J-GLOBAL ID：200903046856827009
光学素子の製造方法および光学素子用金型の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-163422
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015410
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【目的】 曲面上に所望のパターンを有する光学素子を効率よく、かつ正確に製造できる光学素子の製造方法、およびそのような光学素子を製造するための金型を、効率よく、かつ正確に製造できる光学素子用金型の製造方法を提供する。【構成】 基板2の曲面3上に形成された感光性物質からなる加工層4に、基板2の曲面3に対応した像面の形状を有する投影光学系7を用いて、レチクル6の所定のパターンを投影し、その後現像して所望のパターンを有する光学素子を製造する。また、基板2の曲面3上に形成された感光性物質からなる加工層4に、基板2の曲面3に対応した像面の湾曲を有する投影光学系7を用いて、レチクル6の所定のパターンを投影し、その後現像したもの、またはさらに異方性エッチングにより基板2に所望のパターン転写したものをマスター原盤として用いて、曲面上に所望のパターンを有する金型を製造する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一面が曲面からなる基板の前記曲面上に、感光性物質からなる加工層を形成する工程と、所定のパターンを有するレチクルを、前記基板の曲面の形状とほぼ同一の像面の形状を有する投影光学系により前記加工層に投影して、該加工層に所望のパターンを露光する工程と、露光された前記加工層を現像する工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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