特許
J-GLOBAL ID：200903046858604112
露光装置及び電子デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
前田 均
, 西出 眞吾
, 大倉 宏一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-017489
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228497
出願日： 2003年01月27日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】レジストから発生するアウトガスの投影レンズへの付着を防止し、真空紫外光による露光を適切に行う露光装置を提供する【解決手段】局所ガス給排出部180においては、不活性ガス供給管196を通して供給される不活性ガスが不活性ガス供給口183より吹き出し、投影レンズ151とウエハ230の間の特定空間181に供給される。吹き出された不活性ガスは、露光光ILの光軸方向にずらされて順次配置されている3つの排気口185-1〜185-3に作用する真空吸引力により吸気されて、排気口185-1〜185-3より露光装置100の外部に排気される。これにより、不活性ガス供給口183から排気口部184方向へのウエハ230表面に平行な不活性ガスの流れが形成され、ウエハ230表面より発生したアウトガスは、投影レンズ151に到達する前に不活性ガスにより流され排気口185-1〜185-3より排気される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光ビームで、パターンが形成されたマスクを照明し、該パターンの像を投影光学系を介して基板に転写する露光装置において、
前記投影光学系と前記基板との間で、かつ前記光ビームの光路を含む特定の空間に設けられる局所流体吸排出部を有し、
前記局所流体給排出部は、前記特定の空間に前記光ビームを透過する透過性流体を供給する流体供給口と、前記光ビームの光路に対向して複数配置され、前記特定の空間から前記透過性流体を含む流体を排出する流体排出口とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516F
, G03F7/20 521
5F046AA22
, 5F046BA04
, 5F046CA04
, 5F046DA04
, 5F046DA27
, 5F046DA30
