特許
J-GLOBAL ID：200903046864754282
表面分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-176999
公開番号（公開出願番号）：特開平5-028949
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 マトリックス効果等の妨害現象の影響を受けずに、高精度で表面分析を行うことができる表面分析装置を提供することにある。【構成】 試料S表面に照射されることにより試料S表面を励起する励起ビームを発生する励起ビーム発生手段3と、該励起ビームの照射により試料S表面から放出される放出粒子を分析する質量分析器5とを有する表面分析装置1において、試料S表面にアルカリ金属イオンを照射するアルカリ金属イオン発生手段4を備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
試料表面に照射されることにより該試料表面を励起する励起ビームを発生する励起ビーム発生手段と、該励起ビームの照射により試料表面から放出される放出粒子を分析する分析手段とを有する表面分析装置において、前記試料表面にアルカリ金属イオンを照射するアルカリ金属イオン発生手段と、前記試料表面上にアルカリ金属のガスを導入するアルカリ金属ガス導入手段とのうち、少なくともいずれか一方を備えて成ることを特徴とする表面分析装置。
IPC (2件)：
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