特許
J-GLOBAL ID:200903046866020421
ガスの製造方法及び製造装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-345222
公開番号(公開出願番号):特開2001-164270
出願日: 1999年12月03日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】反応容器材質の腐食や触媒劣化が少ないマイルドな条件下で反応が行なわれ、窒素酸化物、硫黄酸化物等の有害物質の発生が抑えられた、かかる有害物質を含まない水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法及び該製造方法を実施するに好適なかかるガスの製造装置を提供すること。【解決手段】二酸化炭素の超臨界状態あるいは亜臨界状態において炭素源の少なくとも一部を水蒸気の共存下に酸化剤により燃焼させることを特徴とする、水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法並びに前記条件下に炭素源の少なくとも一部を酸化剤により燃焼させることを可能とした、該ガスの製造装置。
請求項(抜粋):
二酸化炭素の超臨界状態あるいは亜臨界状態において炭素源の少なくとも一部を水蒸気の共存下に酸化剤により燃焼させることを特徴とする、水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法。
IPC (7件):
C10J 3/46
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00
, C01B 3/36
, C01B 31/18
, C10J 3/00
, C10J 3/48
FI (7件):
C10J 3/46 Z
, C01B 3/36
, C01B 31/18 A
, C10J 3/00 A
, C10J 3/48
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 304 H
Fターム (24件):
4D004AA02
, 4D004AA07
, 4D004AA12
, 4D004AA31
, 4D004BA03
, 4D004CA04
, 4D004CA28
, 4D004CA32
, 4D004CA34
, 4D004CA36
, 4D004CA39
, 4D004CB44
, 4D004CC01
, 4D004CC02
, 4G040EA04
, 4G040EA06
, 4G040EA07
, 4G040EB42
, 4G046JA02
, 4G046JA04
, 4G046JB02
, 4G046JB04
, 4G046JC05
, 4G046JC06
前のページに戻る