特許
J-GLOBAL ID：200903046871129792
反射防止膜の製造方法および表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-030620
公開番号（公開出願番号）：特開平9-222503
出願日： 1996年02月19日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】【課題】 低屈折率かつ十分な層間付着性を有する層を容易に形成し、表示装置等において、外光による反射光を防止する優れた反射防止層を提供する。【解決手段】 支持体上に低屈折率層を設けるか、支持体の上に中間層、低屈折率層を順に設けた反射防止膜であって、低屈折率層は平均粒径が200nm以下の含フッ素重合体微粒子を少なくとも1種含む層であり、この層が少なくとも2個以上の該微粒子が積み重なることで微粒子間にミクロボイドを含有したものであって、該低屈折率層の形成前にそれが接する支持体または中間層をコロナ放電処理、火炎処理、UV処理、グロー放電処理のうちから選ばれた少なくとも1種の表面処理を施す事を特徴とする反射防止膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
支持体上に低屈折率層を設けるか、支持体の上に中間層、低屈折率層を順に設けた反射防止膜であって、低屈折率層は平均粒径が200nm以下の含フッ素重合体微粒子を少なくとも1種含む層であり、この層が少なくとも2個以上の該微粒子が積み重なることで微粒子間にミクロボイドを含有したものであって、該低屈折率層の形成前にそれが接する支持体または中間層をコロナ放電処理、火炎処理、UV処理、グロー放電処理のうちから選ばれた少なくとも1種の表面処理を施す事を特徴とする反射防止膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 1/10 A
, G02F 1/1335
