特許
J-GLOBAL ID:200903046881731083

薄膜インダクタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-300334
公開番号(公開出願番号):特開平11-135327
出願日: 1997年10月31日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】【課題】 局部での磁束集中による損失の発生,及び高周波数帯域の特定の範囲での交流損失の増加を回避できる薄膜インダクタを提供すること。【解決手段】 このスパイラル型薄膜インダクタは、ガラス基板1上において外鉄型磁心を有すると共に、メッキ法により銅メッキで形成した改良構造の銅メッキスパイラルコイル3 ́を磁気的に等方な複合磁気異方性膜2に組み合わせて成る。銅メッキスパイラルコイル3 ́は、交流損失を減らすために局部に位置されて基体を成す統合基体部3aから2分割された分割部3bを有し、統合基体部3aが分割部3bを1周毎に統合し、且つ中心から外周へ向いた一半径方向に揃って設けられている。銅メッキスパイラルコイル3 ́自体は、最外周に位置される最外周部及び最内周に位置される最内周部を統合基体部3a及び分割部3bによらない通常の巻線形としている。
請求項(抜粋):
外鉄型磁心を有すると共に、メッキ法により銅メッキで形成した銅メッキスパイラルコイルを磁気的に等方な複合磁気異方性膜に組み合わせて成る薄膜インダクタにおいて、前記銅メッキスパイラルコイルは、交流損失を減らすために局部に位置されて基体を成す統合基体部から分割された分割部を有して成ることを特徴とする薄膜インダクタ。
IPC (3件):
H01F 17/00 ,  H01F 10/16 ,  H01F 27/28
FI (4件):
H01F 17/00 B ,  H01F 17/00 D ,  H01F 10/16 ,  H01F 27/28 L

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