特許

J-GLOBAL ID：200903046883017159

プラズマ支援ウェハー処理反応容器の二重静電チャックウェハーステージ

発明者： スニル ウィクラマナヤカ
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-319257
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124298
出願日： 2001年10月17日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ウェーハ下面上のパーティクル汚染の問題を除去し、反応容器におけるウェットクリーニング間の時間を長くし、ウェーハ表面の温度の均一性とプロセスの化学反応を改善する。【解決手段】 二重静電チャック(ESC)ウェハーステージは、金属スラブ4の上に組み込まれた第1ESC1、誘電体プレートに組み込まれたユニポーラ構造を有しかつ第1ESCの上に配置される第2ESC2、複数の凸部21からなり、第2ESCの上面上のガスリザーバ、第2ESCの上面上のガスリザーバにガスを供給するガス導入部23、第2ESC内の電極につながる電気的接続部、第1ESC内の電極につながる少なくとも1つの電気的接続部を備える。第1および第2のESCと金属スラブは誘電体部材の上に配置される。

請求項（抜粋）：

処理ウェハーを配置するために用いられる、プラズマ支援ウェハー処理反応容器の二重静電チャックウェハーステージであって、金属スラブの上に組み込まれた第1静電チャックと、誘電体プレートに組み込まれた単一極構造を有しかつ前記第1静電チャックの上に配置される第2静電チャックと、前記第2静電チャックの上面上の複数の凸部からなるガスリザーバーと、前記第2静電チャックの上面の前記ガスリザーバーにガスを供給するガス導入口と、前記第2静電チャック内の電極への電気的接続部と、前記第1静電チャック内の電極への少なくとも1つの電気的接続部と、そして前記第2静電チャックと前記金属スラブが配置される誘電体部材と、からなるプラズマ支援ウェハー処理反応容器の二重静電チャックウェハーステージ。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/302 C

Fターム (17件)：

5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB29 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA17 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA40 ,  5F031MA32 ,  5F031NA17 ,  5F031PA07 ,  5F031PA24 ,  5F031PA26