特許

J-GLOBAL ID：200903046941420015

重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法

発明者： 南波 洋一 ,  高橋 浩
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-219541
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060734
出願日： 1997年08月14日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 波長が220nm以下のエキシマレーザー(193nmArFレーザ等)の遠紫外線等に対し吸収がなく(透明であり)、高い感度と解像度を有する、微細パターン形成に適したレジスト樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 側鎖にカルボン酸基及びシアノ基並びに酸により分解する基(t-ブチル基、t-ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、又はテトラヒドロピラニル基等)を有するポリオルガノシルセスキオキサンと放射線照射により分解して酸を発生する酸発生剤、又は更に溶解性阻止剤を添加した系に、溶剤とを含んで成ることを特徴とするレジスト樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)からなるポリオルガノシルセスキオキサンを含有することを特徴とする重合体。一般式(1);【化1】(式中 R1 、R2 はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基から選ばれた少なくとも1種の置換基、または酸で分解し得るエステルを示し、R3 〜R6 は炭素数1〜4のアルキル基、または水素原子を示す。またnは正の数である)

IPC (6件)：

C08G 77/26 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C08G 77/26 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭58-198528
  
• 特開平4-107460
  
• 特開平1-149832
  
• 塗料用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-341821   出願人：昭和電工株式会社