特許

J-GLOBAL ID：200903046944462185

193NMポジ型フォトレジスト組成物

発明者： マカロック・イアン ,  イースト・アンソニー・ジェイ ,  カン・ミン ,  ケオシアン・リチャード ,  ヨーン・ヒュン-ナム
出願人/特許権者： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-553869
公開番号（公開出願番号）：特表2002-517606
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
要約：

【要約】適当な光酸発生剤(PAG) と共に使用した際にポジ型のフォトレジストとなるポリマー。このポリマーは、酒石酸ポリ無水物主鎖、アセタールにより保護された1,2 ジオール基、及び主鎖に懸垂した縮合環アセタール基を含んでなる。アセタールにより保護されたα- ヒドロキシ無水物主鎖構造は、光酸により触媒された効率のよい解裂を起こし、水性現像剤に容易に溶解する小分子量断片を与える。この溶解度についての大きい差異は、高解像度の像を生成することを可能にする。縮合環は耐エッチング性を与え、これはアダマントンまたはノルカンフル環構造から構成されることができる。商業的に入手可能な光酸発生剤を添加することによって、そのポリマー調合物は、高いコントラスト及び解像度を与えるポジ型フォトレジストとなる。

請求項（抜粋）：

以下の構造【化1】を含んでなる、フォトレジストとして使用するのに特に適したポリマー。

IPC (3件)：

C08G 67/04 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08G 67/04 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J005AB02 ,  4J005BA00