加熱炉用膜分離型窒素ガス供給装置の制御方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林広志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-134167
公開番号（公開出願番号）：特開平6-323758
出願日： 1993年05月13日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【構成】加熱炉へ窒素ガスを供給する装置を、空気から膜分離型窒素ガス発生器で窒素ガスを分離し、その窒素ガスに水素ガスを混合して燃焼反応させて酸素濃度を低下させる装置で構成する。運転開始時には水素ガスを供給せず、加熱炉へ窒素ガスの供給を開始した後、加熱炉内の酸素濃度がある程度安定した時点から、水素ガスの供給を開始する。【効果】定常運転状態では加熱炉へ低酸素濃度の窒素ガスを供給できる。運転開始後一定時間は水素ガスを供給しても酸素濃度の低減効果が低いので、この間、水素ガスの供給を停止することにより、水素ガスの無駄な使用をなくすことができる。

請求項（抜粋）：

加熱炉へ窒素ガスを供給する装置を、圧縮空気供給源と、圧縮空気を加熱する空気加熱器と、加熱された圧縮空気から窒素ガスを分離する分離膜を用いた膜分離型窒素ガス発生器と、水素ガス供給源と、膜分離型窒素ガス発生器で発生した窒素ガスに水素ガス供給源から供給された水素ガスを混合する混合器と、混合したガスを触媒により燃焼反応させて窒素ガス中の酸素濃度を低下させる精製器とを備えた膜分離型窒素ガス供給装置で構成し、この膜分離型窒素ガス供給装置から加熱炉へ窒素ガスの供給を開始する時には水素ガス供給源から水素ガスの供給を行わず、加熱炉へ窒素ガスの供給を開始した後、加熱炉内の酸素濃度が安定状態に近い所定のレベルに達した時点で、水素ガス供給源から水素ガスの供給を開始することを特徴とする加熱炉用膜分離型窒素ガス供給装置の制御方法。

IPC (6件)：

F27D 7/02 , B23K 1/008 , B23K 31/02 310 , F27B 9/04 , F27B 9/10 , H05K 3/34 507

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-225303
特開平4-356349
特開平2-225303

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