特許
J-GLOBAL ID:200903046955674656
ガリウム含有廃水の処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-185364
公開番号(公開出願番号):特開2003-001269
出願日: 2001年06月19日
公開日(公表日): 2003年01月07日
要約:
【要約】【課題】化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等から排出されるガリウム含有廃水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウムを効率的に回収することができ、同時に共存するヒ素を、鉄を含んだ凝集汚泥を発生することなく除去し得るガリウム含有廃水の処理装置を提供する。【解決手段】ガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段からの水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段と、固液分離手段の処理水が導入されて濃縮水と透過水に分離する膜分離手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。
請求項(抜粋):
ガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段からの水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段と、固液分離手段の処理水が導入されて濃縮水と透過水に分離する膜分離手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。
IPC (6件):
C02F 1/62 ZAB
, B01D 61/58
, B01D 71/02
, C01G 15/00
, C02F 1/28
, C02F 1/44
FI (6件):
C02F 1/62 ZAB Z
, B01D 61/58
, B01D 71/02
, C01G 15/00 E
, C02F 1/28 E
, C02F 1/44 E
Fターム (37件):
4D006GA03
, 4D006GA04
, 4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006KA72
, 4D006KB12
, 4D006KB20
, 4D006KD03
, 4D006MB19
, 4D006MC03
, 4D006PA01
, 4D006PA03
, 4D006PB08
, 4D006PB23
, 4D006PB27
, 4D006PC01
, 4D024AA04
, 4D024AB17
, 4D024BA18
, 4D024BC02
, 4D024CA01
, 4D024DA08
, 4D024DB05
, 4D024DB06
, 4D024DB07
, 4D024DB20
, 4D038AA08
, 4D038AB70
, 4D038AB79
, 4D038BA04
, 4D038BB06
, 4D038BB13
, 4D038BB17
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特開平1-249187
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特開平4-349990
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排煙脱硫排水の処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-279004
出願人:栗田工業株式会社
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特開昭62-294491
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特開平4-293587
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審査官引用 (3件)
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特開平1-249187
-
特開平4-349990
-
排煙脱硫排水の処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-279004
出願人:栗田工業株式会社
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