特許
J-GLOBAL ID：200903046967929889
低塩素安定剤の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-335999
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164246
出願日： 2000年11月02日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 低塩素含有安定剤の製造方法を提供する。【解決手段】 a)テトラキス(2,4-ジ第三ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホナイト及びその異性体50-80重量%、b)ビス(2,4-ジ第三ブチルフェニル)ビフェニレンモノホスホナイト及びその異性体5-25重量%、並びにc)トリス(2,4-ジ第三ブチルフェニル)ホスホナイト5-25重量%からなり、成分a)ないしc)の全量が100重量%より多くない低塩素含有安定剤混合物の、フリーデル-クラフト反応によりビフェニルを三塩化リン及び三塩化アルミニウムと反応させ、形成された二層を分離しつつ、第三アミン又は芳香族アミン及び溶媒の存在下で該生成物を2,4-ジ第三ブチルフェノールと反応させることによる製造方法に関する。該方法は、水、塩基及び乾燥剤による溶媒層処理、安定剤混合物含有溶液からの沈殿物分離及び溶媒蒸発を含む。
請求項（抜粋）：
a)次式I【化1】で表されるジホスホナイト50ないし80重量%b)次式II【化2】で表されるモノホスホナイト5ないし25重量%、およびc)次式III【化3】で表されるホスフィット5ないし25重量%(式I、IIおよびIII中、Rは次式IV【化4】で表される基を表す。)からなり、そして式I、IIおよびIIIで表される化合物の全量が100重量%より多くない、低量の塩素を含む安定剤混合物を、フリーデル-クラフツ反応条件下で次式V【化5】で表されるビフェニルを三塩化リンおよび三塩化アルミニウムと反応させることにより、そして形成された二つの層を分離しつつ、第三アミンまたは芳香族アミンおよび溶媒の存在下で生成物混合物を次式VI【化6】で表される2,4-ジ第三ブチルフェノールと反応させることにより製造する方法であって、溶媒層を水、塩基および乾燥剤で処理すること、安定剤混合物を含む溶液から沈殿物を分離し、そして溶媒を蒸発させることを含む製造方法。
IPC (3件)：
C09K 15/32
, C07F 9/145
, C07F 9/48
C09K 15/32 C
, C07F 9/145
, C07F 9/48
